申请人提交的复制件或者图样应当至少放大到用该布图所生产电路的20倍以上。申请人可以同时提供含有全部布图设计的电子版本,所提交的 电子版本的复制件或者图样有多张纸件的,应按顺序编号并附具目录;布图设计的复制件图样有多张纸件的,应按顺序编号并附具目录;布图设计的复制或者图样的 纸件应当使用A4纸格式,如果大于A4纸的,应当折叠成A4纸格式;复制件或者图样可以出具简单的文字说明,用以说明集成电路布图设计的结论、技术、功 能,字数一般不超过300字。 布图设计在申请日之前还没有商业利用的,该申请可以包含有保密信息的图层,其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。有保 密信息的,应当在申请表中涉及保密信息图层的页码编号及总页数与申请表填写一致,记载该保密信息部分的复制件或者图样的纸件应当置放在另一个保密文档袋中 提交。除侵权诉讼或者
行政查处程序需要外,任何人不得查阅或者复制该保密信息。